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产品概述
HORIBA LF-F404M-A-EVD是一款高精度液体流量控制阀，专为TEOS（四乙氧基硅烷）等特种液体的精密输送设计，广泛应用于半导体制造、化学气相沉积（CVD）等对流体控制要求严苛的工业领域。
产品特点
- 精准流量控制：支持5g/min的稳定流量输出，确保工艺过程中液体输送的一致性。
- 专业液体适配：针对TEOS等易挥发、高纯度液体优化，材质兼容性强，减少液体残留与污染风险。
- 数字化通讯：采用D-NET协议，可无缝集成至工业自动化控制系统，实现远程监控与参数调节。
- 宽电压供电：支持+24V（11V~25V）宽范围电源输入，适应不同工业供电环境。
- 稳定工作温度：工作温度范围15-45℃，确保在工业环境中可靠运行。
技术参数
- 型号：LF-F404M-A-EVD
- 控制液体：TEOS
- 流量范围：5g/min
- 接口规格：4CRF-2CRF
- 通讯协议：D-NET
- 电源要求：+24V(11V~25V)
- 工作温度：15-45℃
- 产品认证：CE, UKCA等工业标准认证
应用场景
该流量控制阀主要应用于半导体晶圆制造、薄膜沉积、精密化工等领域，尤其适用于需要精确控制TEOS等前驱体液体流量的CVD设备、原子层沉积（ALD）系统及其他特种材料输送设备，为工艺稳定性与产品良率提供关键保障。
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