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产品概述
尼康 PrA-IIS 曝光系统是一款2006年3月制造的日本原装高精度设备，目前处于闲置处理状态，整体成色良好。该设备专为高精度曝光需求设计，广泛适用于对曝光精度有严格要求的工业制造场景。
技术参数
- 制造信息：2006年3月制造，日本原装进口
- 核心配置：配备Renishaw光纤激光编码器，确保高精度定位与控制
- 设备状态：闲置处理，成色良好
产品特点
- 高精度性能：搭载Renishaw光纤激光编码器，提供卓越的位置反馈精度，满足精密曝光工艺要求
- 可靠结构：立式设计，主体框架稳固，透明观察窗便于实时监控曝光过程，黄色警示标识符合工业安全标准
- 适用性强：适合半导体、精密电子元件、光学器件等领域的高精度曝光作业
应用场景
该曝光系统特别适用于需要高精度图案转移的制造环节，如半导体芯片光刻、精密电路板曝光、光学元件镀膜前预处理等对定位精度和曝光均匀性要求极高的场景，是精密制造企业提升产品质量的理想设备。
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